為何超薄介質(zhì)層成為高容值密度的關(guān)鍵？

在微型化電子設(shè)備需求激增的背景下，貼片穿心電容的容值密度提升面臨物理極限挑戰(zhàn)。傳統(tǒng)介質(zhì)層厚度與容值的矛盾關(guān)系，如何通過(guò)技術(shù)創(chuàng)新被打破？
本文將圍繞超薄介質(zhì)層制備技術(shù)，系統(tǒng)解析從材料選擇到精密加工的完整工藝鏈，揭示高容值密度背后的科學(xué)邏輯。