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存儲器技術演進:從DRAM到3D NAND的突破之路

發布時間:2025年7月17日

存儲器技術的演進是現代電子工業的縮影。從DRAM的動態刷新到NAND Flash的浮柵存儲,再到3D NAND的立體堆疊,每一次突破都推動著數據中心、物聯網設備的性能躍遷。本文將解析三大技術節點的核心原理與產業影響。

一、DRAM:動態存儲的基石

DRAM(動態隨機存取存儲器) 通過電容電荷存儲數據,其核心在于周期性刷新機制。

關鍵技術特征

  • 電容結構:利用微型電容電荷狀態代表0/1信號
  • 刷新電路:每64ms需刷新數千行數據(來源:JEDEC標準)
  • 制程微縮:單元尺寸縮小推動密度提升,但電容漏電問題加劇

    關鍵局限:刷新能耗占整體功耗20%以上(來源:IEEE論文)

二、NAND Flash:顛覆存儲介質

當DRAM面臨物理極限時,浮柵晶體管結構的NAND Flash開啟了非易失存儲新時代。

技術迭代路徑

 

代際 核心突破 應用場景
SLC NAND 單比特/單元 工業控制設備
MLC NAND 雙比特/單元 消費級SSD
TLC NAND 三比特/單元 大容量存儲設備

 

重要轉折:電荷陷阱技術替代傳統浮柵,解決單元間干擾(來源:IEDM會議)

三、3D NAND:垂直維度的革命

平面微縮逼近物理極限后,立體堆疊技術成為破局關鍵。

三維架構創新點

  • 垂直通道:硅通孔技術實現字線堆疊

  • 替代材料:鎢取代多晶硅降低電阻(來源:應用材料白皮書)

  • Xtacking工藝:存儲單元與邏輯電路分層制造

當前水平:層數突破200層,單位面積容量提升5倍(來源:TechInsights)

四、協同演進的元器件技術

存儲器進化依賴配套元器件創新:

  • 高K介質:提升電容電荷保持能力

  • 電荷泵電路:為閃存編程提供高壓脈沖

  • 糾錯編碼芯片:應對NAND讀寫錯誤率

例如濾波電容在電源管理模塊中穩定編程電壓

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